پوشش کاربید تانتالیوم چیست؟

ماده سرامیکی کاربید تانتالم (TaC) دارای نقطه ذوب تا 3880 ℃ است و ترکیبی با نقطه ذوب بالا و پایداری شیمیایی خوب است. این می تواند عملکرد پایدار را در محیط های با دمای بالا حفظ کند. علاوه بر این، دارای مقاومت دمایی بالا، مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی، و سازگاری شیمیایی و مکانیکی خوب با مواد کربنی است که آن را به یک ماده پوشش محافظ بستر گرافیت ایده آل تبدیل می کند. 

پوشش کاربید تانتالیوم می تواند به طور موثری از اجزای گرافیت در برابر اثرات آمونیاک داغ، هیدروژن، بخار سیلیکون و فلز مذاب در محیط های استفاده خشن محافظت کند، به طور قابل توجهی عمر مفید اجزای گرافیت را افزایش داده و مهاجرت ناخالصی ها را در گرافیت مهار می کند و کیفیت آن را تضمین می کند.اپیتاکسیالورشد کریستال.

شکل 1. اجزای معمولی پوشش داده شده با کاربید تانتالم

رسوب شیمیایی بخار (CVD) بالغ ترین و بهینه ترین روش برای تولید پوشش های TaC بر روی سطوح گرافیت است.

با استفاده از TaCl5 و Propylene به ترتیب به عنوان منابع کربن و تانتالیوم و آرگون به عنوان گاز حامل، بخار TaCl5 تبخیر شده با دمای بالا به محفظه واکنش وارد می شود. در دما و فشار مورد نظر، بخار ماده پیش ساز بر روی سطح گرافیت جذب می شود و تحت یک سری واکنش های شیمیایی پیچیده مانند تجزیه و ترکیب منابع کربن و تانتالیوم و همچنین یک سری واکنش های سطحی مانند انتشار و دفع گرافیت قرار می گیرد. محصولات جانبی پیش ساز در نهایت، یک لایه محافظ متراکم بر روی سطح گرافیت تشکیل می‌شود که گرافیت را از وجود پایدار تحت شرایط محیطی شدید محافظت می‌کند و سناریوهای کاربرد مواد گرافیت را به طور قابل‌توجهی گسترش می‌دهد.

شکل 2.اصل فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD).

نیمه هادی VeTekعمدتاً محصولات کاربید تانتالیوم را ارائه می دهد: حلقه راهنمای TaC، حلقه سه گلبرگ با پوشش TaC، بوته پوشش TaC، گرافیت متخلخل پوشش TaC به طور گسترده استفاده می شود فرآیند رشد کریستال SiC؛ گرافیت متخلخل با پوشش TaC، حلقه راهنمای با پوشش TaC، حامل ویفر گرافیت با پوشش TaC، گیرنده های پوشش TaC، گیرنده های سیاره ای، گیرنده های ماهواره ای با پوشش TaC، و این محصولات پوشش دهنده کاربید تانتالم به طور گسترده ای درفرآیند اپیتاکسی SiCوفرآیند رشد تک کریستال SiC.

شکل 3.VeTek محبوب ترین محصولات پوشش کاربید تانتالیوم نیمه هادی