پایه کوارتز ذوب شده ALD

به عنوان یک تولید کننده و تامین کننده حرفه ای محصولات پایه کوارتز ذوب شده ALD در چین، پایه کوارتز ذوب شده نیمه هادی ALD VeTek به طور خاص برای استفاده در رسوب لایه اتمی (ALD)، رسوب بخار شیمیایی کم فشار (LPCVD) و همچنین فرآیند ویفر انتشار طراحی شده است. رسوب یکنواخت لایه های نازک روی سطوح ویفر. به سوالات بیشتر خود خوش آمدید.

ارسال استعلام

توضیحات محصول

پایه کوارتز ذوب شده ALD VeTek Semiconductor ALD نقش کلیدی در فرآیند تولید نیمه هادی ها به عنوان یک ساختار پشتیبانی برایقایق کوارتز، که برای نگه داشتن آن استفاده می شودویفر. پایه کوارتز ذوب شده با حفظ دمای پایدار به رسوب یکنواخت فیلم کمک می کند، که به طور مستقیم بر عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه های نیمه هادی تأثیر می گذارد. علاوه بر این، Quartz Pedestal توزیع یکنواخت گرما و نور را در محفظه فرآیند تضمین می کند و در نتیجه کیفیت کلی فرآیند رسوب را بهبود می بخشد.

ALD fused silica susceptor is used to support the quartz boat on which the wafer is placed

مزایای مواد پایه کوارتز ذوب شده ALD

مقاومت در برابر درجه حرارت بالا: نقطه نرم شدن پایه کوارتز ذوب شده تا حدود 1730 درجه سانتیگراد است و می تواند عملیات دمای بالای 1100 درجه سانتیگراد تا 1250 درجه سانتیگراد را برای مدت طولانی تحمل کند و می تواند در محیط های با دمای شدید تا 1450 درجه سانتیگراد قرار گیرد. برای مدت کوتاهی

مقاومت در برابر خوردگی عالی: کوارتز ذوب شده تقریباً به تمام اسیدها به جز اسید هیدروفلوئوریک از نظر شیمیایی بسیار بی اثر است. مقاومت اسیدی آن 30 برابر بیشتر از سرامیک و 150 برابر بیشتر از فولاد ضد زنگ است. کوارتز ذوب شده از نظر شیمیایی در دماهای بالا بی همتا است و آن را به یک ماده ایده آل برای فرآیندهای شیمیایی پیچیده تبدیل می کند.

پایداری حرارتی: یکی از ویژگی های کلیدی مواد Fused Quartz Pedestal ضریب انبساط حرارتی بسیار پایین آن است. این بدان معنی است که می تواند به راحتی نوسانات دما را بدون ترک خوردن تحمل کند. به عنوان مثال، کوارتز سیلیس ذوب شده را می توان به سرعت تا دمای 1100 درجه سانتی گراد گرم کرد و مستقیماً بدون آسیب در آب سرد غوطه ور کرد، که یک ویژگی مهم در شرایط تولید با استرس بالا است.

فرآیند تولید دقیق: فرآیند تولید پایه های سیلیس ذوب شده به شدت از استانداردهای کیفیت بالا پیروی می کند. در فرآیند تولید از فرآیندهای شکل دهی و جوشکاری گرم استفاده می شود که معمولاً در محیط اتاق تمیز کلاس 10000 تکمیل می شود. پس از آن، پایه شیشه ای کوارتز ذوب شده به طور کامل با آب فوق خالص (18 MΩ) تمیز می شود تا از خلوص محصول و عملکرد مطلوب اطمینان حاصل شود. هر محصول نهایی به شدت بازرسی، تمیز و بسته بندی می شود تا در اتاق تمیز کلاس 1000 یا بالاتر بسته بندی شود تا با استانداردهای بالای صنعت نیمه هادی مطابقت داشته باشد.

مواد کوارتز سیلیکا مات با خلوص بالا

پایه کوارتز ذوب شده VeTeksemi ALD از مواد کوارتز مات با خلوص بالا برای جداسازی موثر گرما و نور استفاده می کند. خواص محافظ حرارتی عالی و محافظ نور آن را قادر می سازد توزیع دمایی یکنواخت را در محفظه فرآیند حفظ کند و از یکنواختی و قوام نازک اطمینان حاصل کند.رسوب فیلمروی سطح ویفر

فیلدهای کاربردی

پایه های کوارتز ذوب شده به دلیل عملکرد عالی در بسیاری از زمینه های صنعت نیمه هادی ها کاربرد گسترده ای دارند. درفرآیند رسوب لایه اتمی (ALD).، از کنترل دقیق رشد فیلم پشتیبانی می کند و پیشرفت دستگاه های نیمه هادی را تضمین می کند. درفرآیند رسوب شیمیایی بخار کم فشار (LPCVD).پایداری حرارتی و قابلیت محافظت نوری پایه کوارتز با خلوص بالا، تضمینی برای رسوب یکنواخت لایه‌های نازک را فراهم می‌کند و در نتیجه عملکرد و بازده دستگاه را بهبود می‌بخشد.

علاوه بر این، در فرآیند ویفر انتشار، مقاومت در برابر دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی پایه کوارتز ذوب شده، قابلیت اطمینان و ثبات فرآیند دوپینگ مواد نیمه هادی را تضمین می کند. این فرآیندهای کلیدی عملکرد الکتریکی دستگاه های نیمه هادی را تعیین می کنند و مواد کوارتز ذوب شده با کیفیت بالا نقشی ضروری در دستیابی به بهترین نتایج این فرآیندها دارند.

فروشگاه های VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal:

Fused Quartz Pedestal shops