چین اپیتاکسی سیلیکونی سازنده، تامین کننده، کارخانه

سیلیکون Epitaxy، EPI، Epitaxy، Epitaxial به رشد یک لایه کریستال با جهت کریستالی یکسان و ضخامت کریستال متفاوت بر روی یک بستر سیلیکونی تک کریستالی اشاره دارد. فناوری رشد همپایه برای ساخت اجزای گسسته نیمه هادی و مدارهای مجتمع مورد نیاز است، زیرا ناخالصی های موجود در نیمه هادی ها شامل نوع N و P است. از طریق ترکیبی از انواع مختلف، دستگاه های نیمه هادی عملکردهای مختلفی را از خود نشان می دهند.

روش رشد اپیتاکسی سیلیکون را می توان به اپیتاکسی فاز گاز، اپیتاکسی فاز مایع (LPE)، اپیتاکسی فاز جامد، روش رشد رسوب بخار شیمیایی به طور گسترده در جهان برای برآورده کردن یکپارچگی شبکه استفاده می شود.

تجهیزات اپیتاکسیال سیلیکونی معمولی توسط شرکت ایتالیایی LPE ارائه می شود که دارای پنکیک epitaxial hy pnotic tor، نوع بشکه hy pnotic tor، نیمه هادی hy pnotic، حامل ویفر و غیره است. نمودار شماتیک محفظه واکنش اپیتاکسیال هی پلکتور به شکل بشکه به شرح زیر است. VeTek Semiconductor می‌تواند ویفری شکل بشکه‌ای اپیتاکسیال hy pelector ارائه دهد. کیفیت پلکتور HY با پوشش SiC بسیار بالغ است. کیفیت معادل SGL؛ در همان زمان، VeTek Semiconductor همچنین می تواند نازل کوارتز حفره واکنش همپایه سیلیکونی، بافل کوارتز، شیشه زنگ و سایر محصولات کامل را ارائه دهد.

گیرنده اپیتاکسیال عمودی برای اپیتاکسی سیلیکونی:

گیرنده اپیتاکسیال سیلیکونی گیرنده ویفر نوع بشکه ای گیرنده نیمه هادی گیرنده با پوشش SiC

گیرنده اپیتاکسیال افقی برای اپیتاکسی سیلیکونی:

اگر گیرنده اپیتاکسیال Pancake Susceptor گیرنده با پوشش SiC