گیرنده ALD

به عنوان یک حرفه ایگیرنده ALDتولید کننده در چین، محصول ماگیرنده ALDکنترل دقیق دما، توزیع یکنواخت گاز و هدایت حرارتی عالی و سایر ویژگی های محصول تعیین کننده آن استگیرنده ALDنقش مهمی در فرآیند رسوب لایه اتمی (ALD) دارد. نقش مهم، از مشاوره خود خوش آمدید.

رسوب یکنواخت لایه نازک:ALD Susceptor رسوب یکنواخت لایه های اتمی را در کل سطح ویفر در طول فرآیند رسوب لایه اتمی (ALD) تضمین می کند. طراحی چرخشی منحصر به فرد آن اجازه می دهد تا گازها و واکنش دهنده ها به طور یکنواخت با سطح ویفر تماس پیدا کنند و در نتیجه ضخامت لایه یکنواختی ایجاد شود. این برای تولید نیمه هادی های با دقت بالا بسیار مهم است.

بهبود کیفیت رسوب: با بهینه سازی کنترل دما و توزیع گاز، ALD Susceptor به طور قابل توجهی کیفیت و عملکرد فیلم را بهبود می بخشد و عیوب و عدم یکنواختی را کاهش می دهد. این آن را برای ساخت نیمه هادی ها و دستگاه های الکترونیکی با دقت بالا ایده آل می کند و از قابلیت اطمینان و عملکرد محصول اطمینان می دهد.

پشتیبانی از پردازش چند ویفر:برخی از طرح های ALD Susceptor اجازه می دهد چندین ویفر به طور همزمان پردازش شوند و کارایی تولید افزایش یابد. این امر به ویژه برای محیط های تولیدی با توان بالا که قادر به برآوردن نیازهای تولید در مقیاس بزرگ هستند، مهم است.

اندازه ها و انواع مختلف ویفر را در خود جای می دهد: ALD Susceptors عموما برای سازگاری بالا طراحی شده اند و می توانند اندازه ها و انواع مختلف ویفر را پشتیبانی کنند. این باعث می شود که در انواع فرآیندهای تولید موثر باشد و انعطاف پذیری و سازگاری بیشتری را فراهم کند.

کاهش هزینه های تولید:Susceptor ALD به دلیل توزیع کارآمد گاز و قابلیت گرمایش یکنواخت، کارایی فرآیند رسوب گذاری را افزایش می دهد و در نتیجه ضایعات مواد و هزینه های تولید را کاهش می دهد. این نه تنها به بهبود راندمان تولید کمک می کند، بلکه هزینه های تولید را نیز به میزان قابل توجهی کاهش می دهد.

خواص فیزیکی اولیه پوشش CVD SiC:

مغازه های تولیدی:

مروری بر زنجیره صنعت اپیتاکسی تراشه های نیمه هادی：