چین پوشش کاربید سیلیکون سازنده، تامین کننده، کارخانه

نیمه هادی VeTek در تولید محصولات پوشش کاربید سیلیکون فوق خالص تخصص دارد، این پوشش ها برای اعمال بر روی گرافیت خالص، سرامیک و اجزای فلزی نسوز طراحی شده اند.

پوشش‌های با خلوص بالا عمدتاً برای استفاده در صنایع نیمه‌رسانا و الکترونیک هدف‌گذاری شده‌اند. آنها به عنوان یک لایه محافظ برای حامل‌های ویفر، گیرنده‌ها و عناصر گرمایشی عمل می‌کنند و از آنها در برابر محیط‌های خورنده و واکنش‌پذیری که در فرآیندهایی مانند MOCVD و EPI با آن مواجه می‌شوند، محافظت می‌کنند. این فرآیندها برای پردازش ویفر و ساخت دستگاه یکپارچه هستند. علاوه بر این، پوشش‌های ما برای کاربرد در کوره‌های خلاء و گرمایش نمونه، که در آن محیط‌های خلاء، واکنش‌پذیر و اکسیژن بالا وجود دارد، مناسب هستند.

در VeTek Semiconductor، ما یک راه حل جامع با قابلیت های پیشرفته ماشین آلات خود ارائه می دهیم. این ما را قادر می سازد تا اجزای پایه را با استفاده از گرافیت، سرامیک یا فلزات نسوز تولید کنیم و پوشش های سرامیکی SiC یا TaC را در داخل خود اعمال کنیم. ما همچنین خدمات پوشش را برای قطعات عرضه شده توسط مشتری ارائه می دهیم و انعطاف پذیری را برای رفع نیازهای مختلف تضمین می کنیم.

محصولات پوشش سیلیکون کاربید ما به طور گسترده ای در اپیتاکسی Si، اپیتاکسی SiC، سیستم MOCVD، فرآیند RTP/RTA، فرآیند اچینگ، فرآیند اچینگ ICP/PSS، فرآیند انواع LED، از جمله LED آبی و سبز، LED UV و UV عمیق استفاده می شود. LED و غیره، که با تجهیزات LPE، Aixtron، Veeco، Nuflare، TEL، ASM، Annealsys، TSI و غیره سازگار است.

قطعات راکتوری که می توانیم انجام دهیم:

پوشش سیلیکون کاربید چندین مزیت منحصر به فرد دارد:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

پارامتر پوشش سیلیکون کاربید نیمه هادی VeTek:

خواص فیزیکی اولیه پوشش CVD SiC
اموال	ارزش معمولی
ساختار کریستالی	فاز β FCC پلی کریستالی، عمدتاً (111) گرا
تراکم	3.21 گرم بر سانتی متر مکعب
سختی	سختی 2500 ویکرز (بار 500 گرم)
اندازه دانه	2 تا 10 میکرومتر
خلوص شیمیایی	99.99995%
ظرفیت حرارتی	640 J·kg-1·K-1
دمای تصعید	2700 ℃
قدرت خمشی	415 مگاپاسکال RT 4 نقطه
مدول یانگ	430 Gpa 4pt خم، 1300 ℃
هدایت حرارتی	300W·m-1·K-1
انبساط حرارتی (CTE)	4.5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

سر دوش گاز SiC جامد

VeTek Semiconductor یک تولید کننده و مبتکر پیشرو سر دوش گاز جامد SiC در چین است. ما سال هاست در مواد نیمه هادی تخصص داشته ایم. طراحی چند تخلخلی سر دوش گاز جامد SiC VeTek تضمین می کند که گرمای تولید شده در فرآیند CVD می تواند پراکنده شود. ، تضمین می کند که بستر به طور یکنواخت گرم می شود. ما مشتاقانه منتظر راه اندازی طولانی مدت با شما در چین هستیم.

ادامه مطلب ارسال استعلام

فرآیند رسوب بخار شیمیایی حلقه لبه SiC جامد

VeTek Semiconductor یک تولید کننده و مبتکر پیشرو در چین است که در چین تولید کننده و مبتکر فرآیند رسوب بخار شیمیایی است. ما سال ها در زمینه مواد نیمه هادی تخصص داشته ایم. حلقه لبه جامد SiC نیمه هادی VeTek یکنواختی اچینگ و موقعیت دقیق ویفر را هنگام استفاده با یک چاک الکترواستاتیک ارائه می دهد. ، حصول اطمینان از نتایج حکاکی ثابت و قابل اعتماد. ما مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما در چین شویم.

ادامه مطلب ارسال استعلام

حلقه فوکوس اچینگ SiC جامد

VeTek Semiconductor یک تولید کننده و مبتکر برجسته حلقه فوکوس اچینگ SiC در چین است. ما سال ها در زمینه مواد SiC تخصص داشته ایم. SiC جامد به دلیل پایداری حرارتی عالی، استحکام مکانیکی بالا و مقاومت در برابر پلاسما به عنوان یک ماده حلقه متمرکز انتخاب می شود. erosion.ما مشتاقانه منتظر تبدیل شدن به شریک طولانی مدت شما در چین هستیم.

ادامه مطلب ارسال استعلام

<...8 9 10 11 12 >

به عنوان یک تولید کننده و تامین کننده حرفه ای پوشش کاربید سیلیکون در چین، ما کارخانه خود را داریم. چه به خدمات سفارشی‌سازی شده برای رفع نیازهای خاص منطقه خود نیاز داشته باشید یا بخواهید پیشرفته و بادوام پوشش کاربید سیلیکون ساخت چین بخرید، می‌توانید برای ما پیام بگذارید.