محصولات

View as

حامل پوشش CVD TaC

حامل پوشش CVD TaC VeTek Semiconductor عمدتا برای فرآیند همپایی تولید نیمه هادی طراحی شده است. نقطه ذوب فوق العاده بالا حامل CVD TaC Coating، مقاومت در برابر خوردگی عالی و پایداری حرارتی فوق العاده، ضروری بودن این محصول را در فرآیند همپایی نیمه هادی تعیین می کند. ما صمیمانه امیدواریم که بتوانیم یک رابطه تجاری طولانی مدت با شما ایجاد کنیم.

ادامه مطلب ارسال استعلام

بافل پوشش سی سی سی سی وی دی

بافل پوششی CVD SiC شرکت Vetek Semiconductor عمدتا در Si Epitaxy استفاده می شود. معمولاً با بشکه های گسترش سیلیکونی استفاده می شود. این ترکیبی از دمای بالا و پایداری بافل CVD SiC Coating Baffle است که توزیع یکنواخت جریان هوا را در تولید نیمه هادی ها بسیار بهبود می بخشد. ما معتقدیم که محصولات ما می توانند فناوری پیشرفته و راه حل های محصول با کیفیت بالا را برای شما به ارمغان بیاورند.

ادامه مطلب ارسال استعلام

سیلندر گرافیتی CVD SiC

سیلندر گرافیتی CVD SiC Vetek Semiconductor's CVD Semiconductor's CVD Semiconductor's CVD Semiconductor's CVD Graphite SiC در تجهیزات نیمه هادی محوری است و به عنوان یک سپر محافظ در راکتورها برای محافظت از اجزای داخلی در تنظیمات دما و فشار بالا عمل می کند. این به طور موثر در برابر مواد شیمیایی و گرمای شدید محافظت می کند و یکپارچگی تجهیزات را حفظ می کند. با مقاومت استثنایی در برابر سایش و خوردگی، طول عمر و پایداری را در محیط های چالش برانگیز تضمین می کند. استفاده از این پوشش ها عملکرد دستگاه نیمه هادی را افزایش می دهد، طول عمر را افزایش می دهد، و نیازهای تعمیر و نگهداری و خطرات آسیب را کاهش می دهد. به درخواست ما خوش آمدید.

ادامه مطلب ارسال استعلام

نازل پوششی CVD SiC

نازل‌های پوششی CVD SiC Vetek Semiconductor's CVD Semiconductor's Semiconductor's CVD Coating Nazzes اجزای حیاتی هستند که در فرآیند اپیتاکسی LPE SiC برای رسوب مواد کاربید سیلیکون در طول ساخت نیمه هادی استفاده می شوند. این نازل ها معمولاً از مواد کاربید سیلیکون با دمای بالا و از نظر شیمیایی پایدار ساخته می شوند تا از پایداری در محیط های پردازش سخت اطمینان حاصل کنند. طراحی شده برای رسوب یکنواخت، آنها نقش کلیدی در کنترل کیفیت و یکنواختی لایه های همپایی رشد یافته در کاربردهای نیمه هادی ایفا می کنند. مشتاقانه منتظر راه اندازی همکاری طولانی مدت با شما هستیم.

ادامه مطلب ارسال استعلام

محافظ پوشش CVD SiC

نیمه هادی Vetek فراهم می کند محافظ پوشش سی سی سی سی سی سی سی سی سی که استفاده می شود اپیتاکسی LPE SiC است، اصطلاح "LPE" معمولا به اپیتاکسی کم فشار (LPE) در رسوب بخار شیمیایی کم فشار (LPCVD) اشاره دارد. در تولید نیمه هادی، LPE یک فناوری فرآیند مهم برای رشد لایه های نازک تک کریستالی است که اغلب برای رشد لایه های همپایی سیلیکونی یا سایر لایه های همپایه نیمه هادی استفاده می شود. لطفاً برای سؤالات بیشتر با ما تماس بگیرید.

ادامه مطلب ارسال استعلام

پایه با پوشش SiC

نیمه هادی Vetek در ساخت پوشش CVD SiC، پوشش TaC روی گرافیت و مواد کاربید سیلیکون حرفه ای است. ما محصولات OEM و ODM مانند پایه با پوشش SiC، حامل ویفر، چاک ویفر، سینی حامل ویفر، دیسک سیاره ای و غیره را ارائه می دهیم. با اتاق تمیز و دستگاه تصفیه درجه 1000، می توانیم محصولاتی با ناخالصی کمتر از 5ppm در اختیار شما قرار دهیم. منتظر شنیدن هستیم. به زودی از شما

ادامه مطلب ارسال استعلام

<...8 9 10 11 12...27 >