قایق ویفر کاربید سیلیکون

قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا VeTek Semiconductor از مواد کاربید سیلیکون بسیار خالص با پایداری حرارتی عالی، استحکام مکانیکی و مقاومت شیمیایی ساخته شده است. قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا در کاربردهای منطقه داغ در تولید نیمه هادی ها به ویژه در محیط های با دمای بالا استفاده می شود و نقش مهمی در محافظت از ویفرها، حمل و نقل مواد و حفظ فرآیندهای پایدار ایفا می کند. نیمه هادی VeTek به کار سخت خود برای نوآوری و بهبود عملکرد قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا ادامه خواهد داد تا نیازهای در حال رشد تولید نیمه هادی ها را برآورده کند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلندمدت شما در چین شویم.

ارسال استعلام

توضیحات محصول

VeTek Semiconductor به عنوان سازنده حرفه ای می خواهد قایق ویفر سیلیکون کاربید با کیفیت بالا را در اختیار شما قرار دهد.

عملکرد حرارتی عالی: قایق ویفر سیلیکونی کاربید با خلوص بالا VeTek Semiconductor دارای عملکرد حرارتی عالی است، در محیط های با دمای بالا پایدار است و رسانایی حرارتی عالی دارد و به آنها اجازه می دهد در دمای بسیار بالاتر از محیط کار کنند. این باعث می شود قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا برای کاربردهای استقامتی با قدرت و دمای بالا ایده آل باشد.

مقاومت در برابر خوردگی عالی: قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا یک ابزار کلیدی برای تولید نیمه هادی است و در برابر عوامل خورنده مختلف مقاومت بالایی دارد. به عنوان یک حامل قابل اعتماد، می تواند در برابر اثرات دمای بالا و خوردگی در یک محیط شیمیایی مقاومت کند و از پردازش ایمن و موثر ویفرهای کاربید سیلیکون اطمینان حاصل کند. به عنوان یک حامل قابل اعتماد، می تواند در برابر اثرات دمای بالا و خوردگی در یک محیط شیمیایی مقاومت کند و از پردازش ایمن و موثر ویفرهای کاربید سیلیکون اطمینان حاصل کند.

یکپارچگی ابعادی: قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا در طول فرآیند تف جوشی منقبض نمی شود، یکپارچگی ابعادی را حفظ می کند و تنش های باقی مانده را که می تواند باعث تاب برداشتن یا ترک خوردن قطعات شود، حذف می کند. این امکان ساخت قطعات پیچیده شکل با ابعاد دقیق را فراهم می کند. چه در ساخت دستگاه های نیمه هادی یا سایر زمینه های صنعتی، قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا کنترل ابعادی قابل اعتمادی را برای اطمینان از مطابقت قطعات با مشخصات ارائه می دهد.

به عنوان یک ابزار همه کاره، قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا VeTek Semiconductor را می توان در انواع فن آوری های تولید نیمه هادی، از جمله رشد همپایه و رسوب بخار شیمیایی استفاده کرد. طراحی بادوام و ماهیت غیر واکنشی آن، قایق ویفر سیلیکون کاربید با خلوص بالا را برای انواع شیمی‌های پردازش مناسب می‌سازد و این اطمینان را می‌دهد که می‌تواند به راحتی با محیط‌های پردازشی مختلف سازگار شود.

در تولید نیمه هادی، رشد همپایه و رسوب بخار شیمیایی مراحل رایج فرآیندی هستند که برای رشد ویفرها و لایه های نازک با کیفیت بالا استفاده می شوند. قایق SiC با خلوص بالا نقش مهمی را به عنوان یک حامل ایفا می کند که می تواند در برابر دمای بالا و مواد شیمیایی برای اطمینان از رشد و فرآیندهای رسوب گذاری دقیق مقاومت کند.

قایق SiC با خلوص بالا علاوه بر طراحی بادوام، غیر واکنشی نیز هست. این بدان معنی است که با مواد شیمیایی پردازش واکنش نامطلوبی نشان نمی دهد و در نتیجه یکپارچگی و عملکرد قایق را حفظ می کند. این ابزاری قابل اعتماد را برای اطمینان از ثبات و تکرارپذیری در فرآیند تولید در اختیار سازندگان نیمه هادی قرار می دهد.

خواص فیزیکی کاربید سیلیسیم تبلور مجدد

خواص فیزیکی کاربید سیلیسیم تبلور مجدد
ویژگی	ارزش معمولی
دمای کار (درجه سانتیگراد)	1600 درجه سانتی گراد (با اکسیژن)، 1700 درجه سانتی گراد (محیط کاهنده)
محتوای SiC	> 99.96٪
محتوای Si رایگان	< 0.1٪
چگالی ظاهری	2.60-2.70 گرم بر سانتی متر مکعب
تخلخل ظاهری	< 16%
قدرت فشار	> 600 مگاپاسکال
قدرت خمش سرد	80-90 مگاپاسکال (20 درجه سانتیگراد)
قدرت خمش گرم	90-100 مگاپاسکال (1400 درجه سانتیگراد)
انبساط حرارتی @1500 درجه سانتیگراد	4.70 10-6/°C
هدایت حرارتی @1200 درجه سانتیگراد	23 W/m•K
مدول الاستیک	240 گیگا پاسکال
مقاومت در برابر شوک حرارتی	فوق العاده خوب