صفحه پوشش TaC

می توانید مطمئن باشید که صفحه پوشش TaC را از کارخانه ما خریداری کنید. صفحه پوشش TaC ما به عنوان یک بخش کلیدی راکتور اپیتاکسی نیمه هادی کار می کند که به بازده و راندمان رشد عالی لایه همپایی کمک می کند. بهبود کیفیت محصول.

برای تولید نیمه‌هادی‌های جدید با محیط‌های آماده‌سازی خشن‌تر و سخت‌تر، مانند تهیه ورق همپایه نیترید گروه سوم (GaN) توسط رسوب‌دهی بخار شیمیایی فلزی-آلی (MOCVD) و تهیه فیلم‌های رشد همپایه SiC توسط بخار شیمیایی. رسوب (CVD) توسط گازهایی مانند H2 و NH3 در محیط های با دمای بالا فرسایش می یابد. لایه‌های محافظ SiC و BN روی سطح حامل‌های رشد موجود یا کانال‌های گاز می‌توانند به دلیل دخالت در واکنش‌های شیمیایی از کار بیفتند که بر کیفیت محصولاتی مانند کریستال‌ها و نیمه‌رساناها تأثیر منفی می‌گذارد. بنابراین لازم است ماده ای با پایداری شیمیایی و مقاومت در برابر خوردگی بهتر به عنوان یک لایه محافظ برای بهبود کیفیت کریستال ها، نیمه هادی ها و سایر محصولات پیدا شود. کاربید تانتالیوم دارای خواص فیزیکی و شیمیایی عالی است، به دلیل نقش پیوندهای شیمیایی قوی، پایداری شیمیایی در دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی آن بسیار بالاتر از SiC، BN و غیره است، یک چشم انداز کاربردی عالی مقاومت در برابر خوردگی، پایداری حرارتی پوشش برجسته است. .

VeTek Semiconductor دارای تجهیزات تولید پیشرفته و سیستم مدیریت کیفیت عالی، کنترل دقیق فرآیند برای اطمینان از پوشش TaC در دسته های سازگاری عملکرد، این شرکت دارای ظرفیت تولید در مقیاس بزرگ، برای رفع نیازهای مشتریان در مقادیر زیادی از عرضه، نظارت بر کیفیت عالی است. مکانیزم برای اطمینان از کیفیت هر محصول پایدار و قابل اعتماد.

پارامتر محصول صفحه پوشش TaC:

زنجیره صنعتی:

فروشگاه تولید