- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
چین پوشش کاربید تانتالیوم سازنده، تامین کننده، کارخانه
نیمه هادی VeTek تولید کننده پیشرو مواد پوشش کاربید تانتالم برای صنعت نیمه هادی است. محصولات اصلی ما شامل قطعات پوشش کاربید تانتالم CVD، قطعات پوشش TaC متخلخل شده برای رشد کریستال SiC یا فرآیند اپیتاکسی نیمه هادی است. با تصویب ISO9001، نیمه هادی VeTek کنترل خوبی بر کیفیت دارد. نیمه هادی VeTek برای تبدیل شدن به مبتکر در صنعت پوشش کاربید تانتالم از طریق تحقیق و توسعه مداوم فناوری های تکراری اختصاص داده شده است.
محصولات اصلی هستندحلقه ناقص پوشش کاربید تانتالیوم، حلقه انحرافی با پوشش TaC، قطعات نیمه ماه با پوشش TaC، دیسک چرخش سیاره ای با پوشش کاربید تانتالم (Aixtron G10)، بوته با پوشش TaC. حلقه های با پوشش TaC; گرافیت متخلخل با پوشش TaC; گیره گرافیتی پوشش کاربید تانتالم; حلقه راهنما با پوشش TaC; صفحه پوشش داده شده با کاربید تانتالم TaC; گیرنده ویفر با پوشش TaC; حلقه پوشش TaC; پوشش گرافیتی پوشش TaC; تکه با پوشش TaCو غیره، خلوص زیر 5ppm است، می تواند نیازهای مشتری را برآورده کند.
گرافیت پوشش TaC با پوشش دادن سطح یک بستر گرافیت با خلوص بالا با یک لایه ریز کاربید تانتالیوم توسط فرآیند اختصاصی رسوب بخار شیمیایی (CVD) ایجاد می شود. مزیت آن در تصویر زیر نشان داده شده است:
پوشش کاربید تانتالیوم (TaC) به دلیل نقطه ذوب بالای آن تا 3880 درجه سانتیگراد، استحکام مکانیکی عالی، سختی و مقاومت در برابر شوک های حرارتی مورد توجه قرار گرفته است و آن را به جایگزینی جذاب برای فرآیندهای اپیتاکسی نیمه هادی مرکب با شرایط دمایی بالاتر تبدیل کرده است. مانند سیستم Aixtron MOCVD و فرآیند اپیتاکسی LPE SiC. همچنین کاربرد گسترده ای در فرآیند رشد کریستال SiC روش PVT دارد.
ویژگی های کلیدی:
●پایداری دما
●خلوص فوق العاده بالا
●مقاومت در برابر H2، NH3، SiH4، Si
●مقاومت در برابر استوک حرارتی
●چسبندگی قوی به گرافیت
●پوشش پوششی منسجم
● اندازه تا قطر 750 میلی متر (تنها سازنده در چین به این اندازه می رسد)
برنامه های کاربردی:
● گیرنده گرمایش القایی
● المنت حرارتی مقاومتی
● سپر حرارتی
پوشش کاربید تانتالیوم (TaC) روی سطح مقطع میکروسکوپی:
پارامتر پوشش کاربید تانتالم نیمه هادی VeTek:
| خواص فیزیکی پوشش TaC | |
| تراکم | 14.3 (g/cm³) |
| انتشار ویژه | 0.3 |
| ضریب انبساط حرارتی | 6.3 10-6/ ک |
| سختی (HK) | 2000 هنگ کنگ |
| مقاومت | 1×10-5اهم * سانتی متر |
| پایداری حرارتی | <2500℃ |
| اندازه گرافیت تغییر می کند | -10~-20 میلی متر |
| ضخامت پوشش | مقدار معمولی ≥20um (10±35um) |
داده های EDX پوشش TaC：
داده های ساختار کریستالی پوشش TaC:
| عنصر | درصد اتمی | |||
| Pt. 1 | Pt. 2 | Pt. 3 | میانگین | |
| سی ک | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| ام | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
- View as
قطعه یدکی پوشش TaC
VeTek Semiconductor یک تولید کننده حرفه ای صفحه پوشش TaC و سایر قطعات یدکی پوشش TaC در چین است. پوشش TaC در حال حاضر عمدتاً در فرآیندهایی مانند رشد تک کریستال کاربید سیلیکون (روش PVT)، دیسک اپیتاکسیال (از جمله اپیتاکسی کاربید سیلیکون، اپیتاکسی LED) و غیره استفاده می شود. همراه با پایداری طولانی مدت صفحه پوشش TaC، VeTek Semiconductor TaC Coating Plate به معیاری برای قطعات یدکی TaC Coating تبدیل شده است. ما مشتاقانه منتظر هستیم که شما شریک طولانی مدت ما شوید.
ادامه مطلبارسال استعلام
GaN روی گیرنده epi SiC
VeTek Semiconductor یک تولید کننده حرفه ای از GaN on SiC epi susceptor، پوشش CVD SiC و گیره گرافیت CVD TAC COATING در چین است. در میان آنها، GaN روی گیرنده epi SiC نقش حیاتی در پردازش نیمه هادی ایفا می کند. از طریق هدایت حرارتی عالی، توانایی پردازش در دمای بالا و پایداری شیمیایی، راندمان بالا و کیفیت مواد فرآیند رشد اپیتاکسی GaN را تضمین می کند. ما صمیمانه منتظر مشاوره بیشتر شما هستیم.
ادامه مطلبارسال استعلام
حامل پوشش CVD TaC
حامل پوشش CVD TaC VeTek Semiconductor عمدتا برای فرآیند همپایی تولید نیمه هادی طراحی شده است. نقطه ذوب فوق العاده بالا حامل CVD TaC Coating، مقاومت در برابر خوردگی عالی و پایداری حرارتی فوق العاده، ضروری بودن این محصول را در فرآیند همپایی نیمه هادی تعیین می کند. ما صمیمانه امیدواریم که بتوانیم یک رابطه تجاری طولانی مدت با شما ایجاد کنیم.
ادامه مطلبارسال استعلام
حلقه راهنمای پوشش TaC
حلقه راهنمای پوشش TaC نیمه هادی VeTek با استفاده از پوشش کاربید تانتالم بر روی قطعات گرافیت با استفاده از تکنیک بسیار پیشرفته ای به نام رسوب بخار شیمیایی (CVD) ایجاد می شود. این روش به خوبی تثبیت شده است و خواص پوشش استثنایی را ارائه می دهد. با استفاده از حلقه راهنمای پوشش TaC می توان طول عمر اجزای گرافیت را به میزان قابل توجهی افزایش داد، حرکت ناخالصی های گرافیت را مهار کرد و کیفیت تک کریستال SiC و AIN را به طور قابل اعتمادی حفظ کرد. به پرس و جو از ما خوش آمدید.
ادامه مطلبارسال استعلام
گیرنده گرافیت با پوشش TaC
گیرنده گرافیتی با پوشش TaC نیمه هادی VeTek از روش رسوب بخار شیمیایی (CVD) برای تهیه پوشش کاربید تانتالم بر روی سطح قطعات گرافیتی استفاده می کند. این فرآیند بالغ ترین و دارای بهترین خواص پوششی است. گیرنده گرافیت با پوشش TaC می تواند عمر مفید اجزای گرافیت را افزایش دهد، از مهاجرت ناخالصی های گرافیت جلوگیری کند و کیفیت اپیتاکسی را تضمین کند. VeTek Semiconductor مشتاقانه منتظر درخواست شما است.
ادامه مطلبارسال استعلام
گیرنده پوشش TaC
VeTek Semiconductor Susceptor Coating TaC را ارائه می دهد، با پوشش استثنایی TaC خود، این susceptor مزایای بسیاری را ارائه می دهد که آن را از راه حل های معمولی متمایز می کند. با ادغام یکپارچه در سیستم های موجود، TaC Coating Susceptor از VeTek Semiconductor سازگاری و عملکرد کارآمد را تضمین می کند. عملکرد قابل اعتماد و پوشش TaC با کیفیت بالا به طور مداوم نتایج استثنایی را در فرآیندهای اپیتاکسی SiC ارائه می دهد. ما متعهد به ارائه محصولات با کیفیت با قیمت های رقابتی هستیم و مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما در چین باشیم.
ادامه مطلبارسال استعلام
به عنوان یک تولید کننده و تامین کننده حرفه ای پوشش کاربید تانتالیوم در چین، ما کارخانه خود را داریم. این که آیا به خدمات سفارشی‌سازی شده برای رفع نیازهای خاص منطقه خود نیاز دارید یا می‌خواهید پیشرفته و بادوام پوشش کاربید تانتالیوم ساخت چین بخرید، می‌توانید برای ما پیام بگذارید.
