پوشش TaC چیست؟

پوشش TaC (پوشش کاربید تانتالوم) یک ماده پوشش دهنده با عملکرد بالا است که توسط فرآیند رسوب شیمیایی بخار (CVD) تولید می شود. با توجه به خواص عالی پوشش TaC در شرایط سخت، به طور گسترده ای در فرآیند ساخت نیمه هادی ها، به ویژه در تجهیزات و قطعاتی که به دمای بالا و محیط خورنده قوی نیاز دارند، استفاده می شود. پوشش TaC معمولاً برای محافظت از بسترها (مانند گرافیت یا سرامیک) در برابر آسیب دمای بالا، گازهای خورنده و سایش مکانیکی استفاده می شود.

ویژگی ها و مزایای محصول

پایداری حرارتی بسیار بالا:

توضیحات ویژگی: پوشش TaC دارای نقطه ذوب بیش از 3880 درجه سانتیگراد است و می تواند ثبات را بدون تجزیه یا تغییر شکل در محیط با دمای بسیار بالا حفظ کند.

مزیت: این ماده آن را به یک ماده ضروری در تجهیزات نیمه هادی با دمای بالا مانند پوشش CVD TaC و TaC Coated Susceptor، به ویژه برای کاربرد در راکتورهای MOCVD، مانند تجهیزات Aixtron G5 تبدیل می کند.

مقاومت در برابر خوردگی عالی:

توضیحات ویژگی: TaC دارای بی اثری شیمیایی بسیار قوی است و می تواند به طور موثر در برابر فرسایش گازهای خورنده مانند کلریدها و فلوریدها مقاومت کند.

مزایا: در فرآیندهای نیمه هادی که شامل مواد شیمیایی بسیار خورنده است، پوشش TaC از اجزای تجهیزات در برابر حملات شیمیایی محافظت می کند، عمر مفید را طولانی می کند و ثبات فرآیند را بهبود می بخشد، به ویژه در استفاده از قایق ویفر سیلیکون کاربید و سایر اجزای کلیدی.

سختی مکانیکی عالی:

توضیحات ویژگی: سختی پوشش TaC به 9-10 Mohs می رسد که آن را در برابر سایش مکانیکی و استرس دمای بالا مقاوم می کند.

مزیت: خاصیت سختی بالا باعث می‌شود که پوشش TaC برای استفاده در محیط‌های سایش بالا و استرس زیاد مناسب باشد و پایداری و قابلیت اطمینان طولانی‌مدت تجهیزات را در شرایط سخت تضمین کند.

واکنش شیمیایی کم:

توضیحات ویژگی: پوشش TaC به دلیل بی اثر بودن شیمیایی خود می تواند واکنش پذیری کم را در محیط های با دمای بالا حفظ کند و از واکنش های شیمیایی غیر ضروری با گازهای واکنش پذیر جلوگیری کند.

مزیت: این امر به ویژه در فرآیند تولید نیمه هادی مهم است زیرا خلوص محیط فرآیند و رسوب مواد با کیفیت بالا را تضمین می کند.

نقش پوشش TaC در پردازش نیمه هادی

حفاظت از اجزای کلیدی تجهیزات:

شرح عملکرد: پوشش TaC به طور گسترده در اجزای کلیدی تجهیزات تولید نیمه هادی مانند TaC Coated Susceptor استفاده می شود که نیاز به کار در شرایط شدید دارد. با پوشش با TaC، این اجزا می توانند برای مدت طولانی در محیط های با دمای بالا و گاز خورنده بدون آسیب کار کنند.

عمر تجهیزات را افزایش دهید:

شرح عملکرد: در تجهیزات MOCVD مانند Aixtron G5، پوشش TaC می تواند دوام اجزای تجهیزات را به میزان قابل توجهی بهبود بخشد و نیاز به تعمیر و نگهداری و جایگزینی تجهیزات را به دلیل خوردگی و سایش کاهش دهد.

افزایش ثبات فرآیند:

شرح عملکرد: در تولید نیمه هادی، پوشش TaC یکنواختی و یکنواختی فرآیند رسوب را با ارائه دمای بالا و محیط شیمیایی پایدار تضمین می کند. این امر به ویژه در فرآیندهای رشد اپیتاکسی مانند اپیتاکسی سیلیکون و نیترید گالیم (GaN) مهم است.

بهبود کارایی فرآیند:

شرح عملکرد: با بهینه سازی پوشش روی سطح تجهیزات، پوشش TaC می تواند کارایی کلی فرآیند را بهبود بخشد، میزان نقص را کاهش دهد و بازده محصول را افزایش دهد. این برای ساخت مواد نیمه هادی با دقت بالا و خلوص بالا حیاتی است.

پایداری حرارتی بالا، مقاومت در برابر خوردگی عالی، سختی مکانیکی و واکنش شیمیایی کم که توسط پوشش TaC در طول پردازش نیمه هادی نشان داده شده است، آن را به گزینه ای ایده آل برای محافظت از اجزای تجهیزات تولید نیمه هادی تبدیل می کند. از آنجایی که تقاضای صنعت نیمه هادی برای دمای بالا، خلوص بالا و فرآیندهای تولید کارآمد همچنان در حال افزایش است، پوشش TaC چشم انداز کاربرد گسترده ای دارد، به ویژه در تجهیزات و فرآیندهای شامل CVD TaC Coating، TaC Coated Susceptor و Aixtron G5.

VeTek Semiconductor Technology Co., LTD ارائه دهنده پیشرو مواد پوشش پیشرفته برای صنعت نیمه هادی است. تمرکز شرکت ما بر روی توسعه راه حل های پیشرفته برای صنعت است.

محصولات اصلی ما شامل پوشش‌های کاربید سیلیکون CVD (SiC)، پوشش‌های کاربید تانتالم (TaC)، SiC حجیم، پودرهای SiC و مواد SiC با خلوص بالا، گیرنده گرافیت با پوشش SiC، حلقه‌های پیش گرما، حلقه انحراف با پوشش TaC، قطعات نیمه ماه و غیره است. .، خلوص زیر 5ppm است، می تواند نیازهای مشتری را برآورده کند.

تمرکز نیمه هادی VeTek بر توسعه فناوری پیشرفته و راه حل های توسعه محصول برای صنعت نیمه هادی است.ما صمیمانه امیدواریم که شریک طولانی مدت شما در چین باشیم.